在集成電路封裝可靠性研究中，鹵素元素（氯、溴）對(duì)鋁金屬層的腐蝕已被廣泛認(rèn)知。然而，封裝材料在高溫下釋放的鹵素化合物，對(duì)微尺度互連結(jié)構(gòu)的破壞機(jī)制更為復(fù)雜。Thomas的研究shouci系統(tǒng)揭示了含鹵環(huán)氧樹脂排氣產(chǎn)物對(duì)金-鋁鍵合界面金屬間化合物的選擇性腐蝕現(xiàn)象，這一發(fā)現(xiàn)對(duì)高可靠性封裝設(shè)計(jì)具有重要警示意義。今天就跟隨科準(zhǔn)測(cè)控小編一起來(lái)了解一下。

一、實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)揭示異常失效現(xiàn)象

通過(guò)設(shè)計(jì)對(duì)照實(shí)驗(yàn)，Thomas將采用不同環(huán)氧樹脂封裝的TO-18器件分別在150℃、180℃和200℃下進(jìn)行長(zhǎng)達(dá)1000小時(shí)的老化試驗(yàn)。關(guān)鍵結(jié)果顯示：僅在使用含四溴雙酚-A阻燃劑的環(huán)氧樹脂封裝中，在200℃條件下24小時(shí)內(nèi)即發(fā)生大規(guī)模鍵合失效。這一異常快速的失效現(xiàn)象，與常規(guī)熱老化導(dǎo)致的漸進(jìn)性退化形成鮮明對(duì)比。

二、機(jī)制分析：界面腐蝕特異性路徑

失效分析表明，腐蝕過(guò)程呈現(xiàn)明確的路徑特異性：腐蝕目標(biāo)的專一性：鹵素排氣產(chǎn)物僅攻擊金-鋁界面處形成的金屬間化合物相，而鍵合區(qū)外的鋁焊盤保持完好；微觀結(jié)構(gòu)的異常轉(zhuǎn)變：正常均勻致密的金屬間化合物轉(zhuǎn)變?yōu)槠瑢訝罱Y(jié)構(gòu)。

該結(jié)構(gòu)具有典型的兩相特征，與共晶/共析組織類似，但不同于正常金屬間化合物的生長(zhǎng)模式；失效機(jī)制的明確性：腐蝕從金屬間化合物暴露的側(cè)面或缺陷處開始，通過(guò)擴(kuò)散導(dǎo)致化合物分解，形成力學(xué)性能極低的片層組織，最終引發(fā)界面分離。

三、對(duì)照驗(yàn)證：材料選擇的決定性影響

通過(guò)設(shè)置不含環(huán)氧樹脂的對(duì)照組，實(shí)驗(yàn)獲得關(guān)鍵對(duì)照證據(jù)：在相同老化條件下，對(duì)照組器件形成了強(qiáng)健的鍵合界面和正常的金屬間化合物生長(zhǎng)。這一對(duì)比直接證明，失效根源并非溫度本身，而是特定材料在高溫下釋放的活性物質(zhì)。

四、可靠性設(shè)計(jì)的重要原則

本研究的發(fā)現(xiàn)為高可靠性封裝設(shè)計(jì)提供了三項(xiàng)關(guān)鍵原則：材料兼容性評(píng)估必須考慮高溫逸出物：封裝材料的選擇不僅要關(guān)注初始性能，更要評(píng)估其在工作溫度下可能釋放的活性物質(zhì)；界面穩(wěn)定性應(yīng)作為可靠性設(shè)計(jì)的核心：金屬間化合物作為鍵合界面的薄弱環(huán)節(jié)，其化學(xué)穩(wěn)定性需要特別關(guān)注；加速老化試驗(yàn)需包含材料交互作用驗(yàn)證：可靠性測(cè)試方案應(yīng)能揭示材料間的化學(xué)交互效應(yīng)，而不僅僅是單一應(yīng)力下的表現(xiàn)。

Thomas的研究系統(tǒng)揭示了封裝材料-互連界面協(xié)同失效的新機(jī)制，這一發(fā)現(xiàn)推動(dòng)了封裝可靠性研究從"材料本身可靠性"向"材料交互作用可靠性"的范式轉(zhuǎn)變。在此背景下，科準(zhǔn)測(cè)控的專業(yè)力學(xué)檢測(cè)設(shè)備與測(cè)試服務(wù)為此類研究提供了關(guān)鍵支持。我們通過(guò)力學(xué)性能測(cè)試系統(tǒng)與微納米壓痕技術(shù)，能夠?qū)匣蟮慕饘匍g化合物界面進(jìn)行精密力學(xué)表征，量化評(píng)估鹵素腐蝕導(dǎo)致的界面強(qiáng)度退化。結(jié)合高加速老化試驗(yàn)與微觀力學(xué)分析，我們的解決方案可精準(zhǔn)識(shí)別材料交互作用引發(fā)的早期失效風(fēng)險(xiǎn)，為gaoduan電子器件的可靠性評(píng)估提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)支撐。