在金-鋁鍵合系統(tǒng)中，金與鋁界面通過(guò)固態(tài)擴(kuò)散形成的金屬間化合物是微電子封裝中常見(jiàn)的可靠性問(wèn)題。這些化合物的生成雖然不影響初期導(dǎo)電性，但會(huì)顯著降低鍵合界面機(jī)械強(qiáng)度，成為高可靠性電子產(chǎn)品潛在的失效風(fēng)險(xiǎn)。科準(zhǔn)測(cè)控小編將通過(guò)本文，結(jié)合微觀分析與可靠性數(shù)據(jù)，為您系統(tǒng)解析該退化過(guò)程的機(jī)理與防護(hù)策略。

一、金屬間化合物的生成過(guò)程與結(jié)構(gòu)特征
當(dāng)工作溫度超過(guò)150℃時(shí)，金與鋁原子獲得足夠的激活能，開(kāi)始跨界面進(jìn)行固態(tài)擴(kuò)散。這種互擴(kuò)散不是簡(jiǎn)單的原子混合，而是按照特定的原子比例形成具有確定晶體結(jié)構(gòu)的金屬間化合物相，主要包括AuAl?（紫色相）和Au?Al?（白色相）等。這些化合物的晶體結(jié)構(gòu)與母材金屬的金相結(jié)構(gòu)不同，表現(xiàn)出截然不同的物理化學(xué)性質(zhì)。

Au-Al鍵合界面金屬間化合物的SEM形貌

圖中顯示鍵合界面處形成的白色疏松金屬間化合物區(qū)域，該區(qū)域雖仍保持導(dǎo)電性，但結(jié)構(gòu)已發(fā)生本質(zhì)變化。

二、金屬間化合物對(duì)鍵合強(qiáng)度的退化影響
研究表明，Au-Al鍵合在200℃下存儲(chǔ)2688小時(shí)后，界面剪切強(qiáng)度下降約2.5倍。這種退化主要?dú)w因于金屬間化合物的脆性特性以及伴隨形成的Kirkendall空洞。金屬間化合物的硬度雖高于純金屬，但其斷裂韌性較低，在熱機(jī)械應(yīng)力下易發(fā)生脆性開(kāi)裂。具體來(lái)說(shuō)，AuAl?相的顯微硬度約為5.5GPa，遠(yuǎn)高于純鋁的0.3GPa和純金的1.0GPa，但其斷裂韌性卻比純金屬低一個(gè)數(shù)量級(jí)。這種高硬度低韌性的特性導(dǎo)致界面在應(yīng)力作用下容易發(fā)生脆性斷裂。

三、退化過(guò)程的動(dòng)力學(xué)特征
金屬間化合物的生長(zhǎng)速率受溫度與時(shí)間共同影響，遵循拋物線生長(zhǎng)規(guī)律。在反應(yīng)初期（數(shù)百小時(shí)內(nèi)），化合物層較?。ㄍǔＰ∮?/span>1μm），對(duì)界面電阻的影響較小。隨著反應(yīng)的持續(xù)進(jìn)行，化合物層逐漸增厚，界面脆性顯著加劇。這一過(guò)程可以用擴(kuò)散控制的界面反應(yīng)模型來(lái)描述，其中化合物的生長(zhǎng)厚度與時(shí)間的平方根成正比。當(dāng)可用反應(yīng)金屬消耗殆盡后，化合物生長(zhǎng)速率逐漸減緩，最終達(dá)到熱力學(xué)平衡狀態(tài)。

四、設(shè)計(jì)建議與緩解措施
為應(yīng)對(duì)金屬間化合物帶來(lái)的可靠性挑戰(zhàn)，建議采取以下設(shè)計(jì)策略：一是嚴(yán)格控制器件工作溫度與高溫存儲(chǔ)時(shí)間，避免長(zhǎng)時(shí)間處于高溫激活狀態(tài)；二是優(yōu)化金屬層厚度，通過(guò)減少可供反應(yīng)的金屬體積來(lái)限制化合物層zuida厚度；三是在高溫應(yīng)用場(chǎng)景中考慮采用金-銅或鋁-銅等互擴(kuò)散速率更低的材料組合。這些措施需要綜合考慮工藝可行性和成本效益，實(shí)現(xiàn)可靠性與經(jīng)濟(jì)性的平衡。

通過(guò)理解金-鋁金屬間化合物的生成動(dòng)力學(xué)與對(duì)機(jī)械性能的影響，可有效制定針對(duì)性設(shè)計(jì)策略，提升電子產(chǎn)品的長(zhǎng)期可靠性?？茰?zhǔn)測(cè)控可提供專業(yè)的金-鋁鍵合高溫可靠性測(cè)試服務(wù)，通過(guò)精確控制的溫度環(huán)境和定期的界面剪切力測(cè)試，幫助客戶評(píng)估鍵合系統(tǒng)的長(zhǎng)期穩(wěn)定性，為材料選擇和工藝優(yōu)化提供數(shù)據(jù)支持。